روش جديد ايجاد پوشش‌هاي فتوکاتاليستي
پژوهشگران دانشگاه تربیت مدرس تهران و صنعتی شریف موفق به ایجاد پوشش‌های نانوساختار اکسید تیتانیوم برای کاربردهای فتوکاتالیستی با روشی اقتصادی شدند. نانوساختارهای اکسید تیتانیوم توانایی فتوکاتالیستی داشته و می‌توانند در حذف آلاینده‌ها از هوا مورد استفاده قرار گیرند.
نانوساختارهای اکسید تیتانیوم به علت حساسیت به نوری که دارند می‌توانند به عنوان فتوکاتالیست استفاده شوند. یکی از زمینه‌های کاربردی این نانوساختارها استفاده‌ی آنها به صورت پوشش است. در همین راستا روش‌های مختلفی برای ایجاد پوشش‌های نانوساختار اکسید تیتانیوم ارائه شده‌اند که روش‌های سل-ژل، رسوب شیمیایی و فیزیکی بخار، پاشش پلاسمایی و... از این جمله‌اند که در نوع خود با هزینه‌های زیادی همراه هستند.
هدف اصلی این تحقیق ایجاد پوشش‌های نانوساختار اکسید تیتانیوم به صورت اقتصادی برای کاربردهای فتوکاتالیستی بود. بر همین اساس برای ایجاد پوشش‌های نانوساختار اکسید تیتانیوم از روش رسوب نشانی الکتروفورتیک استفاده شد که روشی بسیار اقتصادی، ساده و در عین حال کارآمد است. همچنین بررسی مکانیزم فرآیند رسوب‌نشانی الکتروفورتیک از حلال‌های مختلف (متانول، اتانول و بوتانول) و انتخاب حلال مناسب برای ایجاد پوشش، از دیگر هدف‌های این کار تحقیقاتی بود .
در این تحقیقات مشخص شد که پوشش‌های نانوساختار تیتانیای تهیه شده از سوسپانسیون بوتانولی حاوی غلظت بهینه تری‌اتانول‌آمین دارای مرغوب‌ترین و یکنواخت‌ترین ریزساختار هستند که منجر به راندمان بالای فتوکاتالیستی برای آنها می‌گردد. در مورد فرآیند رسوب‌نشانی الکتروفورتیک نیز مشخص شد که افزودنی مورد استفاده می‌تواند تأثیر زیادی بر روی پایداری سوسپانسیون، مقاومت الکتریکی رسوب و در نتیجه سرعت تشکیل پوشش در طول فرآیند و همچنین ریزساختار پوشش داشته باشد.
پژوهشگران دانشگاه تربیت مدرس تهران و صنعتی شریف موفق به ایجاد پوشش‌های نانوساختار اکسید تیتانیوم برای کاربردهای فتوکاتالیستی با روشی اقتصادی شدند. نانوساختارهای اکسید تیتانیوم توانایی فتوکاتالیستی داشته و می‌توانند در حذف آلاینده‌ها از هوا مورد استفاده قرار گیرند.
نانوساختارهای اکسید تیتانیوم به علت حساسیت به نوری که دارند می‌توانند به عنوان فتوکاتالیست استفاده شوند. یکی از زمینه‌های کاربردی این نانوساختارها استفاده‌ی آنها به صورت پوشش است. در همین راستا روش‌های مختلفی برای ایجاد پوشش‌های نانوساختار اکسید تیتانیوم ارائه شده‌اند که روش‌های سل-ژل، رسوب شیمیایی و فیزیکی بخار، پاشش پلاسمایی و... از این جمله‌اند که در نوع خود با هزینه‌های زیادی همراه هستند.
هدف اصلی این تحقیق ایجاد پوشش‌های نانوساختار اکسید تیتانیوم به صورت اقتصادی برای کاربردهای فتوکاتالیستی بود. بر همین اساس برای ایجاد پوشش‌های نانوساختار اکسید تیتانیوم از روش رسوب نشانی الکتروفورتیک استفاده شد که روشی بسیار اقتصادی، ساده و در عین حال کارآمد است. همچنین بررسی مکانیزم فرآیند رسوب‌نشانی الکتروفورتیک از حلال‌های مختلف (متانول، اتانول و بوتانول) و انتخاب حلال مناسب برای ایجاد پوشش، از دیگر هدف‌های این کار تحقیقاتی بود .
در این تحقیقات مشخص شد که پوشش‌های نانوساختار تیتانیای تهیه شده از سوسپانسیون بوتانولی حاوی غلظت بهینه تری‌اتانول‌آمین دارای مرغوب‌ترین و یکنواخت‌ترین ریزساختار هستند که منجر به راندمان بالای فتوکاتالیستی برای آنها می‌گردد. در مورد فرآیند رسوب‌نشانی الکتروفورتیک نیز مشخص شد که افزودنی مورد استفاده می‌تواند تأثیر زیادی بر روی پایداری سوسپانسیون، مقاومت الکتریکی رسوب و در نتیجه سرعت تشکیل پوشش در طول فرآیند و همچنین ریزساختار پوشش داشته باشد.